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PECVD400化学气相沉积系统
编号:SN20200424103319223
类别:PECVD系列等离子体化学气相沉积镀膜设备
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

     

    利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。 

     

     

    技术指标: 

    1、 极限真空度:≤6.67x10-5Pa 

    2、 系统从大气开始抽气,40分钟可达到6.6x10-4Pa

    3、 系统停泵关机12小时后真空度:≤5Pa

    4、 圆筒型真空室尺寸约Ф400x300mm

    5、 基片尺寸:可放置Φ100mm基片;

    6、 工艺气路:4路;

    7、 抽气组件:分子泵系统;

    *请致电024-23826899/55/60,由专业技术人员为您提供详细的技术方案。或将您的技术要求及联系方式等信息发送到我司邮箱:sales@sky.ac.cn*

     

     

    公司:中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司  

    地址:沈阳市浑南新区新源街1 

    销售电话:024-23826899024-23826855

    售后电话:024-23826838

    传真:024-23826828

    邮箱:sales@sky.ac.cn

    网址:www.sky.ac.cn

    开户行:建行沈阳浑南新区产业园分理处

    账号:2100 1394 6010 5958 1266

    纳税号:912101 0041 0581 2660

     

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