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PVD400磁控溅射系统
编号:2
类别:磁控溅射镀膜系统
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    产品优势:

    1、极限真空度,可达6.6X10-5Pa

    2、抽速快,抽气20-30分钟内可做实验;

    3、真空室内外表面经过特殊电化学抛光处理,可持久保持洁净真空状态;

    4、新型磁控溅射靶,提高靶材利用率及膜厚均匀性;

    5、新型样品台,旋转、升降更顺畅,模块化结构设计;

    6、新型质量流量控制器,高精度控制进气;

    7、脂润滑分子泵抽速快,缩短抽气时间,并提供洁净真空环境;

    8 整机一体式设计结构,美观大方,并采用触摸屏集成自动控制方式,操作更集中、更便捷。

    1、极限真空度:优于6.6X10-5Pa 

    2、抽速:30分钟可达到6.6X10-4Pa

    3、磁控溅射靶:2英寸x3套;

    4、直流溅射电源:500Wx2套;

    5、射频溅射电源:500Wx1套;

    6、样品尺寸:4英寸x1片;

    7、样品温度:600℃;

    8、脂润滑分子泵:1套;

    9、无油涡旋干泵:1套;

    10、自动控制系统:1套;

    11、冷却水路系统:1套。

    公司:中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 

    地址:沈阳市浑南新区新源街1

    销售电话:024-23826899024-23826855

    售后电话:024-23826838

    传真:024-23826828

    邮箱:sales@sky.ac.cn

    网址:www.sky.ac.cn

    开户行:建行沈阳浑南新区产业园分理处

    账号:2100 1394 6010 5958 1266

    纳税号:912101 0041 0581 2660

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